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알루미늄 나이트라이드 (질화 알루미늄) - Aluminum Nitride (AlN)
AlN은 불활성가스 분위기에서 안정하여 2800℃부근에서 용융하며
진공 중에서는 1800℃ 부근에서 분해가 됩니다.
대기 중에서는 700℃이상에서는 표면 산화층이 형성되기 때문에
1370℃까지 안정한 특성을 가지고 있습니다.
AlN은 전기 저항이 높고 열전도 특성이 탁월하여 방열소재로 적합하며,
광전자, 저장장치 중 유전체, 전자기판의 고효율의 방열판이나
제철, IT분야에서 폭넓게 활용되고 있습니다.
Key Features
- High Thermal Conductivity
- Electrical Insulator
- Critical Thermal Management Material
Applications
- Crucibles
- PEC, Shadow Ring
- Gas Injector